拋光範圍：矽晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化镓、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡麵拋光

拋光特點：具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光後容易清洗等特點。如：矽片、化合物晶體、精密光學器件、寶石玉器等的拋光加工。

應用範圍：樱花视频在线观看氧化矽分散液具有粒徑小，溶度高，分散好等特點，用在拋光液中，以化學作用為主，添加螯合劑，活性劑，可以解決表麵粗糙度，波紋度，表麵缺陷等傳統問題，可以做光學鏡麵拋光，寶石鏡麵拋光等精密拋光。

技術指標：